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        X射線膜厚儀在引線框架膜厚測試中的應用

        X熒光膜厚儀(XRF膜厚儀)是一種基于X射線熒光光譜分析技術的非破壞性檢測設備,能夠快速、精確地測量材料表面鍍層的厚度及成分。在半導體封裝領域,引線框架(LeadFrame)作為芯片與外部電路連接的關鍵部件,其表面鍍層(如銀、金、鎳、鈀、錫等)的質量和厚度直接影響導電性、焊接性能和耐腐蝕性。以下是X熒光膜厚儀在引線框架鍍層測試中的具體應用及優勢:一.應用場景1.鍍層厚度測量引線框架通常需要多層鍍層(如Ag/Ni/Pd/Au等組合),X熒光膜厚儀可同時測量各鍍層的厚度,無需破壞...

        • 2025

          2-20

          1、實驗目的本實驗旨在使用電感耦合等離子體發射光譜儀(ICP-OES)對金屬硅樣品中的雜質元素進行定量分析。通過實驗,掌握ICP-OES的基本操作流程,了解金屬硅中常見雜質元素(如鐵、鋁、鈣、鈦等)的檢測方法,并評估儀器的檢測限、精密度和準確度。2、實驗設備與材料2.1設備1.ICP-OES光譜儀:配備霧化器、等離子體炬管、檢測器和數據處理系統。2.電子天平:精度為0.0001g。3.微波消解儀:用于樣品處理。4.超聲波清洗器:用于清洗實驗器具。5.移液器:用于移取液體。6....

        • 2025

          1-14

          等離子除膠機是一種利用等離子體技術去除材料表面附著物的設備,廣泛應用于半導體、光電子、生物醫藥、航空航天等領域。它通過高頻電場和介質阻擋層的作用,使噴射到表面的等離子束能夠在膠層與基材之間形成一個空氣裂隙,導致膠層剝離。一、半導體材料(如硅片、晶圓)在半導體制造過程中,晶圓表面的膠體雜質會影響器件的性能和可靠性。等離子除膠技術可以有效地去除晶圓表面的膠體雜質,提高器件的性能。例如使用等離子除膠機處理3英寸硅晶圓,可以去除表面的光刻膠,且處理后的表面干凈無殘留。優點:1、高效性...

        • 2025

          1-3

          奧林巴斯手持光譜儀,以其的技術性能和廣泛的應用領域,成為了眾多行業的分析工具。其核心技術的先進性與創新性,為其在科研、工業、環境監測等多個領域的應用提供了堅實的基礎。奧林巴斯手持光譜儀采用先進的X射線熒光(XRF)技術,通過發射高能X射線激發樣品表面原子,使其發出特征性的二次X射線(熒光)。根據這些熒光的波長和強度,儀器能夠準確分析出元素的組成和含量。這一技術不僅實現了快速響應,僅需短短數秒即可完成測量與分析,還具備無損檢測的特點,不會對樣品造成破壞,保證了材料的完整性。在應...

        • 2024

          12-4

          全自動鍍層測厚儀是一種高精度、高效率的測量儀器,廣泛應用于電子、機械、航空、汽車等多個領域,用于精確測量物體表面鍍層的厚度。以下是對全自動鍍層測厚儀從原理到實踐的解析。全自動鍍層測厚儀的工作原理多種多樣,主要包括X射線熒光法、渦流法、磁感應法等。其中,X射線熒光法通過向被測物體表面發射X射線,激發表面元素產生熒光信號,再通過探測器收集反射回來的熒光信號,經過智能軟件算法推算出鍍層厚度。渦流法則利用射頻電磁場在被測物體表面產生的渦流變化來推算鍍層厚度。磁感應法則通過電磁感應原理...

        • 2024

          11-11

          等離子風棒是一種高效的靜電消除設備,其工作原理基于離子化技術。具體來說,等離子風棒內部配備有精密的放電針和出風孔,通過高壓發生器產生高速流動的正負離子氣流。當這些氣流被壓縮并高速吹出時,它們會與物體表面所帶的電荷發生中和反應,無論是正電荷還是負電荷,都能被有效地中和掉,從而達到消除靜電的目的。在實際應用中,等離子風棒的性能優化至關重要。首先,要確保離子風棒與地線可靠連接,以保障操作人員和設備的雙重安全。其次,氣流壓力對等離子風棒的性能有著直接影響。一般建議將氣流壓力調整至0....

        • 2024

          10-16

          全自動鍍層測厚儀是一種高精度測量儀器,其應用廣泛,對現代工業制造具有重要意義。本文將從其工作原理和實際應用兩個方面進行簡要介紹。全自動鍍層測厚儀的工作原理多種多樣,主要包括X射線熒光法、渦流法、磁感應法等。X射線熒光法通過向被測物體表面發射X射線,激發表面元素產生熒光信號,再通過探測器收集反射回來的熒光信號,推算出鍍層厚度。渦流法則利用射頻電磁場在被測物體表面產生的渦流變化來推算鍍層厚度。磁感應法則通過電磁感應原理,檢測磁場強度的變化來推算鍍層厚度。這些原理使得全自動鍍層測厚...

        • 2024

          10-11

          大氣等離子清洗機是通過對工藝氣體施加電場使電離化為等離子體,從而利用這些活性組分的性質進行氧化、還原、裂解、交聯和聚合等物理和化學反應改變樣品表面性質,實現清潔、改性、刻蝕等目的的設備。以下是對大氣等離子清洗機的詳細介紹:1.基本原理:等離子清洗機通過對工藝氣體施加電場使其電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括離子、電子、原子、自由活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。2.主要功能:利用等離子體的活性組分進行氧化、還原、裂解、交聯和聚合等物理和化學反應,改變樣品表面...

        • 2024

          9-12

          全自動鍍層測厚儀作為現代工業檢測的重要工具,其核心技術的揭秘與未來發展趨勢備受關注。其核心技術主要基于電磁感應法、渦流法或X射線法,這些技術確保了鍍層厚度的精準測量。電磁感應法通過探頭產生的磁回路來測量鍍層厚度,隨著探頭與鐵磁性材料間距離的改變,磁回路將發生變化,從而精確計算出鍍層厚度。渦流法則利用高頻交流信號在測頭線圈中產生電磁場,通過測量渦流的大小來反映非導電覆層的厚度。而X射線法則通過照射樣品并測量反射的X射線強度來測量鍍層厚度,具有高精度和無損檢測的特點。展望未來,全...

        • 2024

          8-29

          在材料科學、表面化學和界面特性的研究中,光學水滴角測量儀是一項關鍵的分析工具。它通過測量液滴在固體表面上的接觸角,為研究人員提供了量化材料潤濕性和表面能的方法。選擇合適的光學水滴角測量儀對于獲取準確、可靠的數據至關重要。本文將引導您如何根據實驗室的具體需求選擇最合適的測量儀器。一、確定研究目的和參數需求首先明確您的研究目標和所需測量的參數。是否僅需測量靜態接觸角,或需要動態接觸角以及滾動角等更復雜的分析?確定所需的測量類型將有助于決定應選擇哪種型號的光學水滴角測量儀。二、考慮...

        • 2024

          8-19

          在線等離子清洗機具體操作步驟包括設備檢查、物料放置、參數設置、清洗操作、清洗完成和關機操作。以下是詳細說明:1.設備檢查確認電源連接:確保等離子清洗機的電源連接正常,并接入穩定電源。檢查氣源:確保氣源(如氮氣或空氣)充足,并調整氣源壓力至3-3.5KG左右。檢查艙門密封性:關閉清洗室門,確保其密封完好,避免在清洗過程中發生氣體泄露。2.物料放置放置待清洗物品:將需要清洗的材料放置在等離子清洗機的清洗室內,確保材料之間不會相互干擾。對于尺寸較小的材料,可以放入托盤中再放到擱板上...

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